La société chinoise SMEE est sur le point de créer les scanners UV nécessaires à la fabrication moderne de puces

Lithographie UV extrême (Rayonnement ultraviolet extrême) peut réduire considérablement le coût de fabrication des composants semi-conducteurs 7 nm et plus avancés, c'est pourquoi les sanctions américaines contre la Chine visent à limiter l'accès de ce pays à ces technologies. Il s’avère que les équipementiers chinois créent leurs propres solutions EUV.

Demande de brevet pour des « générateurs de rayonnement ultraviolet extrême »Rayonnement ultraviolet extrême) et les équipements de lithographie introduits par Shanghai SMEE en Chine dès mars de l'année dernière montrent ce qui suit. Selon le South China Morning Post, le document décrit les principes des équipements de lithographie conçus pour fonctionner avec des sources UV intenses. Les informations concernant l'enregistrement de cette demande de brevet n'ont été connues que cette semaine.

Jusqu'à présent, la SMEE n'a pu créer que des scanners lithographiques adaptés au travail avec les normes technologiques de 28 nm et plus.

Si l’entreprise chinoise maîtrise la production de scanners UV, elle réduira considérablement l’écart entre les fabricants de puces chinois et leurs concurrents étrangers.

Le principal fournisseur d'équipements de lithographie est la société néerlandaise ASML. Les fabricants chinois de puces dépendent encore à 99 % de fournisseurs étrangers, notamment des sociétés des Pays-Bas, des États-Unis et du Japon. Les trois pays limitent les livraisons d’équipements UV à la Chine, le premier ayant introduit de telles mesures début 2019.

Depuis ce mois-ci, les autorités néerlandaises exigent que les entreprises opérant sous la juridiction de ce pays obtiennent des licences d'exportation pour fournir des pièces de rechange pour les équipements ASML installés en Chine, ainsi que des mises à jour logicielles pour les systèmes exploités par des clients chinois. Le support technique pour cet équipement est également pratiquement interdit.

Shanghai SMEE elle-même a été inscrite sur la liste des sanctions américaines en décembre 2022, la privant de la possibilité d'utiliser des technologies et des composants d'origine américaine dans ses équipements. Apparemment, l'entreprise a décidé de créer de manière indépendante des équipements pour la production de puces utilisant la lithographie EUV. Ce dernier comprend un laser d'une longueur d'onde de 13,5 nm, soit environ 14 fois inférieure au paramètre caractéristique de 193 nm pour les équipements DUV. La société chinoise SMIC produirait des puces 7 nm pour Huawei à l’aide d’équipements DUV et de nombreux outils encombrants. Les produits finis s'avèrent chers en raison du niveau élevé de défauts. Le passage à un équipement entièrement UV permettrait aux fabricants de puces chinois d’économiser du temps et de l’argent dans leurs opérations.